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雙通道ALD管式爐系統ALD-1200X-4是一款4英寸管式爐系統,包含用于原子層沉積的2個ALD進氣閥、1個精密液體氣相發CVD生長納米材料和薄膜材料的4通道質子流量計控制系統。該管式爐系統簡潔的設計使得更多的科擔的低成本情況下實現ALD工藝實驗。《查看更多》
GSL-1100X-III-D11是一款大面積雙管石墨烯生長爐,其最高溫度可以達到1100℃。特殊的雙管設計,法在箔材上大面積生長材料(面積:~7000 cm^2,箔材纏繞在內管的外壁上)。一個送管裝置可以外管內部或從外管中取出。此款設備特別適合大面積生長石墨烯和柔性電極材料。《查看更多》
1200℃等離子增強HPCVD回轉爐系統,OTF-1200X-II-PEC4是一款1200℃等離子增強混合物理化學氣相沉積(HPCVD)雙溫區回轉爐系統源(帶自動匹配功能)、上游原位蒸發舟、4通道質子流量計控制系統及性能優異的真空泵組成。此于無機復合粉末的熱處理及粉末表面的均勻包覆(如:制備鋰離子電池陰極粉末的導電涂層等)。《查看更多》
GSL-1700X-HVC是一款CE認證的二通道高真空CVD系統,它是由二路質子混氣系統和高真空機組組度可達1600℃,極限真空度可達 to 10^-5 torr?;鞖庀到y可以對兩種氣體進行精確的混氣,然后導《查看更多》
OTF-1200X-80-III-F3LV是一款CE認證的三溫區管式爐CVD系統,其管徑為80mm,采用機械泵,路浮子流量供氣系統組成,其真空度可達到 10-2 torr。《查看更多》
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