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磁控濺射儀可用于金屬、半導體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備,且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點,可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。《查看更多》
高真空濺射可用于金屬、半導體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備,且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點,可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。《查看更多》
磁控濺射卷繞鍍膜機是磁控濺射多用途卷繞鍍膜設備,適用于在 PET 和無紡布上鍍制金屬膜(銅,鋁等)功能性薄膜,設備采用先進的磁控濺射鍍膜技術,配備直流、射頻磁控濺射系統,適合鍍制軟磁合金膜、金屬膜、導電膜、合金膜、介質膜等。《查看更多》
GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀在真空環境中利用粒子轟擊靶材產生的濺射效應,使得靶材原子或分子從固體表面射出,在基片上沉積形成薄膜的過程。屬于物理氣相沉積(PVD)制備薄膜技術的一種。設計而成的簡單、可靠、經濟的鍍膜設備,適用于實驗室各種復合膜樣品的制備,以及非導體材料實驗電極的制作。GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀可用于實驗室制備掃描電鏡樣品使用,且設備體積小巧,《查看更多》
VGB-600-3HD薄膜電池制備系統可在手套箱內進行實驗操作,用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該系統配置三個靶槍,一個配套射頻電源通過轉換開關可以分別連接至任一靶頭,用于各類靶材的濺射鍍膜。與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,特別適用于實驗《查看更多》
VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍,一個弱磁靶用于非導電材料的濺射鍍膜,一個強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優點,《查看更多》
VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-1HD雙靶磁控濺射儀配備有一個靶槍,可選擇強磁靶或弱磁靶,弱磁靶用于非導電材料的濺射鍍膜,強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優點,且可使《查看更多》
VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀配置三個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,兩個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗《查看更多》
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍,一個弱磁靶用于非導電材料的濺射鍍膜,一個強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優點,且可使用的材料范圍廣《查看更多》
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